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和辉光电-U取得薄膜封装材料及其制造方法、薄膜封装结构和电子器件专利提高的效果

作者:小编    发布时间:2023-12-23 00:16:39    浏览量:

  (原标题:和辉光电-U取得薄膜封装材料及其制造方法、薄膜封装结构和电子器件专利,提高薄膜封装的效果)

  金融界2023年12月20日消息,据国家知识产权局公告,上海和辉光电股份有限公司取得一项名为“薄膜封装材料及其制造方法、薄膜封装结构和电子器件“,授权公告号CN111785857B,申请日期为2019年4月。

  专利摘要显示,在本申请提供的薄膜封装材料及其制造方法、薄膜封装结构和电子器件中,通过将锗基引入至丙烯酸酯类单体的主链或侧基中,利用锗基化合物的结构特点提高有机层的热稳定性以及透光率,同时增加有机层对于等离子体的耐受性,进而提高薄膜封装的效果。

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